El Módulo Combinado Z3TH aumenta el rango de módulos para montar sobre las plataformas XY existentes. El Z3TH, con 4 grados de libertad, proporciona 364° de rotación Theta, ejes Z dobles, amplio para carga-descarga de oblea y fino para enfoque, así como una corrección Tip-Tilt de ±0.1°. Este módulo Z3TH es una atractiva alternativa a los piezo-actuadores Z, eliminando la histéresis y la no-linealidad en lazo abierto, a la vez que mejorar el error de seguimiento, la repetitividad, y las prestaciones de desplazamiento y estabilización de posición, además de recorridos mucho mayores.
El módulo Z3TH está principalmente destinado a aplicaciones de tipo front-end y proporciona una adecuada solución para afrontar cualquier aplicación que requiera:
- Alineación entre la herramienta del proceso y un sustrato
- Mapeado de planitud
- Mejora al desplazar y estabilizar posición
Principalmente aplicado en litografía de back-end y control de proceso de obleas.
Características
- Rotación Theta de 364°
- Corrección tip-tilt sobre ±0.1° para nivelación y mejora de desplazamiento y estabilización
- Paso de vacío hacia el nivel del plato
- Integración de Z doble: recorrido amplio para carga/descarga y fino para ajuste foco
- Compatible con sala limpia ISO clase 1
- Baja desviación axial y radial de ±1 µm