Das Z3TH kombinierte Modul erweitert die Modulmöglichkeiten, welche oben auf bestehenden XY Plattformen sitzen können. Das Z3TH Modul, mit 4 Freiheitsgraden, ermöglicht eine 364° Theta Drehbewegung, doppelte Z-Achsen, eine Grobe für Waferbe- und Entladung und eine Genaue für Fokuseinstellung, sowie eine Kipp- und Neige-Korrektur von ±0,1°. Dieses Z3TH Modul ist eine gute Alternative zu Piezo basierenden Z Aktuatoren in dem es Hystereseeffekte und Nicht-Linearitäten im offenen Regelkreis beseitigt, während es einen besseren Schleppfehler in der Bewegung, sowie Wiederholgenauigkeit und ein verbesssertes Bewegungs- und Einschwingverhalten über einen noch längeren Verfahrweg bietet.
Das Z3TH Modul ist in erster Linie für Applikationen im Bereich Front-End geeignet und bietet die richtige Lösung um alle Applikationen zu bewältigen, die folgendes erfordern:
- Ausrichtung zwischen einem Prozesswerkzeug und dem Substrat
- Erfassung / Korrektur der Ebenheit
- Verbesserung des Bewegungs- und Einschwingverhaltens
Bereits bestehende Applikationen sind dem Bereich der Back-End Lithographie und Wafer Prozessüberwachung zuzuordnen.
Eigenschaften
- 364° Theta Drehbewegung
- Kipp- und Neige-Korrektur von ±0.1° zur Nivellierung und für die Verbesserung des Bewegungs- und Einschwingverhaltens
- Vakuumdurchführung bis zur Aufnahmevorrichtung
- Doppelte Z Integration: Grobe Achse für Be- und Entladung und genaue Achse zur Fokuseinstellung
- ISO Klasse 1, Reinraumkompatibilität
- Geringer Rund- und Planlauffehler von ±1 µm
