Z3TM erweitert das Portfolio an Modulen für die Bewegungsplattform. Dieses Modul fügt vier unabhängige Freiheitsgrade hinzu, und zwar eine Drehachse, eine vertikale Achse und zwei Schrägachsen. Dieses optionale Modul ist so konzipiert, dass es die vollständige Erfüllung von Wafer-Bewegungsprofilen für fortschrittliche Halbleiteranwendungen ermöglicht und bietet damit den OEMs eine schlüsselfertige Lösung für jede Halbleitertechnologie. Die Kompaktheit des Produkts stellt eine Rekorddichte in Bezug auf die Anzahl der Funktionen pro Bauraum dar, während seine Leistung neue Marktstandards für die Genauigkeit und Dynamik auf Wafer-Ebene setzt.
Z3TM ermöglicht OEMs die Migration von teuren und veralteten piezoelektrischen Lösungen, eliminiert deren Hystereseprobleme und unterstützt gleichzeitig die Auflösung, Genauigkeit und Wiederholbarkeit im Nanometerbereich, bei noch höherer Dynamik. Mit eingebetteter Unterstützung zur korrekten Probenausrichtung ermöglicht das Modul dann eine weitere Kontrolle der Planarität der Wafer in Bezug auf die Anlagenköpfe mit Hilfe seiner zusätzlichen "Tip"- und "Tilt"-Achsen. Diese einzigartige Funktionalität ermöglicht Anwendern die nächste Stufe von Prozesskontrollen, zum Beispiel Planarität, nominaler Einfallswinkel (AOI). Geradheit der Brennebene und vieles mehr, was zu einer beispiellosen Möglichkeit führt, mit der OEM-Technik das Ergebis auf Wafer-Ebene zu erzielen. Heute vereinfachen die Anwender nicht nur ihre Entwicklungsarbeit für höhere Präzision, sondern erzielen darüber hinaus eine drastische Reduzierung der Gerätekomplexität, des Integrationsaufwands und der Gesamtkosten und ermöglichen so eine wesentlich schnellere Markteinführung bei einem verbesserten Preis-Leistungs-Verhältnis.
Die Z3TM Ergänzung ist das Ergebnis der kontinuierlichen Innovation und vertikalen Integration von ETEL, basierend auf proprietärer IP für Motoren, Elektronik und Steuerungs-Know-how und der Synergie mit HEIDENHAIN wenn es um Rückführung der Positioniergenauigkeit von Weltklasse geht.
Besonderheiten
- Endlose Theta Drehbewegung
- Kipp- und Neige-Korrektur von ±0.08° zur Nivellierung und für die Verbesserung des Bewegungs- und Einschwingverhaltens
- Vakuumdurchführung bis zur Aufnahmevorrichtung
- ISO 2, Reinraumkompatibilität
- Rundlaufgenauigkeit von ±3,5 µm
