Diese Plattform, METIS, ist eine planare Hybrid-Plattform, mit mechanischen und Luftlagern, die für Step-and-Scan-Anwendungen konzipiert ist. Es handelt sich um eine 6-Achsen-Plattform, die sich in X-, Y-, Z- und Theta-Richtung bewegt. Dynamische Ebenheit über die gesamte Bahn sowie bidirektionale Wiederholgenauigkeit sind die wichtigsten Parameter. Diese Plattform wird derzeit eingesetzt in:
- Anwendungen in der Wafer-Prozesskontrolle wie Critical Dimension und Dünnschichtmesstechnik.
- Strukturieren von Wafern
- Lasergestütze Wärmebehandlung von Wafern
Sie kann auch in Back-End of Line Lithographie-Maschinen (Mask Aligner) und für einige Wafer-Vereinzelungsanwendungen verwendet werden.
Diese Plattform verfügt über:
- Eine Ebenheit der Bewegung durch das Luftlager
- Unbegrenzte Drehung in Theta
- Doppelte Z-Integration: Grobe Bewegungen zum Be-/Entladen und feine Bewegungen zur Feinfokussierung
- Eingebauter Gewichtsausgleich in Z
- Die Gierkorrektur kann durch leichtes Verschieben der Y1- und Y2-Motoren durchgeführt werden
- Weitere Integration mit einem vollständig von ETEL gesteuerten Active-Isolation-System möglich
- Hübe in X und Y können mit einigen Beschränkungen hinsichtlich der Leistung auch verlängert werden
