El Z3TM amplía la gama de módulos que sirven a plataformas de movimiento. Este módulo añade cuatro grados de libertad independientes, en concreto a lo largo de un eje rotativo, un eje vertical y dos ejes oblícuos. Gracias a su diseño, este módulo opcional permite un cumplimiento total de perfiles de movimiento de wafers para aplicaciones avanzadas de semiconductores, ofreciendo así a los OEMs una solución a medida para cualquier tecnología de semiconductores. La compacidad del producto establece un récord de densidad en términos de número de funciones por volumen, mientras que sus prestaciones sientan nuevos estándares del mercado para precisiones y dinámicas de wafers.
El Z3TM permite la migración de los OEMs de soluciones piezoeléctricas caras y obsoletas, eliminando sus problemas de histéresis, mientras soportan resoluciones, precisiones y repetitividad del orden del nanómetro, con dinámicas incluso más elevadas. Con un soporte embebido para una alineación adecuada de la muestra, el módulo permite entonces un mayor control de planitud del wafer, respecto de los cabezales del equipo, por medio de sus ejes "tip" y "tilt" adicionales. Esta funcionalidad única permite a los usuarios un nivel superior de control del proceso, por ejemplo planitud, ángulo nominal de indidencia (AOI), rectitud del plano focal, y muchos otros, todos los cuales dan como resultado una oportunidad sin precedente de producir con prestaciones de nivel de wafer con la técnica del OEM. Hoy en día, los adoptadores no sólo simplifican sus esfuerzos de diseño para precisiones más elevadas, sino que admás materializan grandes reducciones en la complejiodad de los equipos, los esfuerzos de fiabilidad y de integración, y costes globales, permitiendo así tiempos de comercialización más rápidos con mejores relaciones precio/prestaciones.
La incorporación del Z3TM proviene de la continua innovación e integración vertical de ETEL, basada en IP propietario para motores, electrónicas y know-how de control, y en sinergia con HEIDENHAIN por lo que respecta a precisión de posicionamiento de clase mundial.
Características
- Rotación Theta infinita
- Corrección tip-tilt sobre ±0.08° para nivelación y mejora de desplazamiento y estabilización
- Paso de vacío hacia el nivel del plato
- Compatible con sala limpia ISO 2
- Radial runout de ±3.5 µm
